用于研發(fā)和小批量生產(chǎn)的連續(xù)爐，可用于在空氣和N 2氣氛中進(jìn)行厚膜燒制，釬焊，通過(guò)添加氫氣進(jìn)行還原還原，密封等。
氧濃度;基于氣體+ 5ppm或更低保證
，工作溫度可達(dá)到 1000℃
-正常使用溫度; 250?900℃
-rate區(qū); 4個(gè)區(qū)（標(biāo)準(zhǔn)），
區(qū)5， 7區(qū)
帶的寬度; 100,200Mm
與天然氣系統(tǒng); N 2 /空氣（標(biāo)準(zhǔn)）
? 2（可選）
尺寸（mm）
810A; 530W×3000L×1360H（4區(qū)）
810A-ⅱ; 610W×3000L×1360H（4區(qū)）
，嘗試烤是設(shè)備（ 810A-II）
