臭氧殺菌消毒機移動式 供應(yīng)移動式臭氧空氣消毒機 江蘇安徽黑龍江等均有售
臭氧是一種強氧化劑，過程屬生物化學(xué)氧化反應(yīng)。O3有以下3種形式:
1.臭氧能氧化分解細菌內(nèi)部葡萄糖所需的酶，使細菌滅活死亡。
2.直接與細菌、病毒作用，破壞它們的細胞器和DNA、RNA，使細菌的新陳代謝受到破壞，導(dǎo)致細菌死亡。
3.透過細胞膜組織，侵入細胞內(nèi)，作用于外膜的脂蛋白和內(nèi)部的脂多糖，使細菌發(fā)生通透性畸變而溶解死亡。
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臭氧為溶菌級方法，殺菌，無殘留，殺菌廣譜，可殺滅細菌繁殖體和芽孢、病毒、真菌等，并可破壞肉毒桿菌毒素。另外，O3對霉菌也有極強的殺滅作用。O3由于穩(wěn)定性差，很快會自行分解為氧氣或單個氧原子，而單個氧原子能自行結(jié)合成氧分子，不存在任何有毒殘留物，所以，O3是一種無污染的消毒劑。O3為氣體，能迅速彌漫到整個空間，無死角。而傳統(tǒng)的消毒方法，無論是紫外線，還是化學(xué)熏蒸法，都有不、有死角、工作量大、有殘留污染或有異味等缺點，并有可能損害人體健康。如用紫外線消毒，在光線照射不到的地方?jīng)]有效果，有衰退、穿透力弱、使用壽命不長等缺點?；瘜W(xué)熏蒸法也存在不足之處，如對抗藥性很強的細菌和病毒，則殺菌效果不明顯。
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氧發(fā)生器選型非常重要應(yīng)從以下幾個方面進行選型：
1.確定臭氧發(fā)生器的型號即臭氧產(chǎn)量。采購臭氧發(fā)生器時首先要確定其使用用途，是用于空氣除味還用于水處理。用于空氣處理時可選擇低濃度經(jīng)濟型的開放式臭氧發(fā)生器，它包括有氣源開放式和無氣源開放式兩種選有氣源機型。該類臭氧發(fā)生器結(jié)構(gòu)簡單價格低廉，但工作時溫度和濕度影響臭氧發(fā)生量。上述開放式臭氧發(fā)生器屬簡單的臭氧裝置，對于要求高的場所空氣處理也應(yīng)選擇高濃度臭氧發(fā)生器。空氣處理時按20-50mg/m3標(biāo)準(zhǔn)投放，食品藥品行業(yè)選高值?？筛呖臻g大小換算即得出臭氧的總用量（即臭氧發(fā)生器產(chǎn)量）。用于水處理時必須選購高濃度臭氧發(fā)生器（臭氧濃度大于12mg/L)，低濃度臭氧處理水是無效的。高濃度臭氧發(fā)生器為標(biāo)準(zhǔn)配置含氣源及氣源處理裝置和臭氧發(fā)生裝置。小型的可設(shè)計成一體式機型產(chǎn)量在5-200g/h間，大中型臭氧發(fā)生器基本以機組形式存在。
2.鑒別臭氧發(fā)生器的品質(zhì)。臭氧發(fā)生器品質(zhì)的優(yōu)劣可從制造材料、系統(tǒng)配置、冷卻方式、工作頻率、控制方式、臭氧濃度、氣源和電能消耗指標(biāo)等多方面鑒別。優(yōu)質(zhì)的臭氧發(fā)生器應(yīng)是高介電材料制造、標(biāo)準(zhǔn)配置（含氣源和凈化裝置）、雙電極冷卻、高頻驅(qū)動、智能控制、高臭氧濃度輸出、低電耗和低氣源消耗。
3.性價比。優(yōu)質(zhì)的臭氧發(fā)生器從設(shè)計到配置及制造材料均按其標(biāo)準(zhǔn)進行，成本遠高于低檔發(fā)生器和低配置發(fā)生器。但優(yōu)質(zhì)臭氧發(fā)生器性能非常穩(wěn)定，臭氧濃度和產(chǎn)量不受環(huán)境因素影響。而低配置臭氧發(fā)生器工作時受環(huán)境影響較大，溫度和濕度的增加可使臭氧產(chǎn)量和濃度大幅度下降，影響處理效果。選購時應(yīng)對其售價和性能進行綜合比評。
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4.防止誤區(qū)。A.了解臭氧發(fā)生器是否含氣源，含氣源發(fā)生器和不含氣源發(fā)生器造價相差很大。如果通過價格優(yōu)勢采購了無氣源的臭氧發(fā)生器，你還需自配氣源裝置終可能要多花錢。B.了解發(fā)生器的結(jié)構(gòu)形式，是否可以連續(xù)運行，臭氧輸出濃度等指標(biāo)。例如需要一臺臭氧發(fā)生器用于凈水處理，若誤選了開放式臭氧發(fā)生器那是無法使用的。D確認(rèn)臭氧發(fā)生器額定標(biāo)注產(chǎn)量，是使用空氣源標(biāo)注的還是使用氧氣源時標(biāo)注的產(chǎn)量。因為臭氧發(fā)生器使用氧氣源時臭氧產(chǎn)量比使用空氣源時大一倍，兩者的造價相差近一倍。選購臭氧發(fā)生器時供求雙方應(yīng)溝通避免走入誤區(qū)，切勿以價格為主要參考依據(jù)衡量臭氧發(fā)生器。
5.備用機。對于連續(xù)工作不許停機的廠所，選購臭氧發(fā)生器時應(yīng)有備用機。按兩用一備，一用一備的原則購置。備用機組主要在設(shè)備維護或修理過程中交替使用，避免停機維護影響正常生產(chǎn)。
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Ebert等［46］在經(jīng)過O2／CF4等離子刻蝕的PDMS表面，分別采用C4F8等離子改性和常溫氣相沉積PFOTCS進行改性制備了超疏水表面，并對其超疏水性能進行了鑒定。綜上所述，采用常溫常壓CVD技術(shù)改性制得的超疏水膜層相較于sol－gel法等液相法改性制得的膜層疏水性、均勻性、化學(xué)穩(wěn)定性和環(huán)境耐久性均更優(yōu)異。但該方法制得的超疏水膜層的疏水層很薄，通常為單分子或幾個分子層厚度，耐沖擊和磨損能力弱，僅能用于不受力的場合。離子增強化學(xué)氣相沉積PECVD是指借助外部所加電場的作用引起放電，使原料氣體成為等離子體狀態(tài)，變?yōu)榛瘜W(xué)上非?；顫姷募ぐl(fā)分子、原子、離子和原子團等，促進化學(xué)反應(yīng)，在基材表面形成薄膜。PECVD具有常溫常壓CVD技術(shù)的絕大多數(shù)優(yōu)點，并且由于等離子體的作用及等離子體參與反應(yīng)，使反應(yīng)物和基材表面均產(chǎn)生大量離子、自由基和亞穩(wěn)態(tài)物質(zhì)等活性基團，降低反應(yīng)發(fā)生的溫度，縮短反應(yīng)時間，使熱力學(xué)上難以發(fā)生的反應(yīng)變?yōu)榭赡?，促進化學(xué)反應(yīng)的進行。
