HYDRON® SE 220是一款水基型單相清洗液,專門設(shè)計用于浸沒式清洗工藝。HYDRON® SE 220能夠有效去除芯片黏著后引線框架、分立器件、功率模塊、功率LED等多種半導體電子器件上的助焊劑殘留，對于倒裝芯片、CMOS等器件也有卓越的清洗效果。

相較于其他清洗液的優(yōu)勢：

• 由于其獨特的單相配方，HYDRON® SE 220能在浸沒式清洗工藝中提供卓越的清洗結(jié)果。同時，可以輕松用去離子水進行漂洗，且漂洗后不會有任何殘留
• 該產(chǎn)品的pH呈中性，因此具有好的材料兼容性，特別不會對芯片表面的鈍化層造成影響
• HYDRON® SE 220能夠提供潔凈、被激活的銅表面，能使銅表面在短暫時間內(nèi)保持在理想狀態(tài)，為后續(xù)邦定、成型、黏膠等工藝做好準備
• HYDRON® SE 220無閃點，可使用在浸沒式清洗設(shè)備中，且無需防爆保護
• 不含鹵素成分，氣味低