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產品簡介
ASML 4022.634.11741
產品價格：￥645.00元/件
上架日期：2025-05-02
發(fā)貨地：福建 寧德市
供應數(shù)量：不限
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詳細說明
    詳細參數(shù)
    品牌ASML型號4022.634.11741
    結構形式模塊式安裝方式現(xiàn)場安裝
    LD指令處理器硬PLC加工定制否
    ASML 4022.634.11741 

    參數(shù)詳解

    ASML 4022.634.11741是光刻機系統(tǒng)中的重要組成部分，其參數(shù)對于光刻工藝的精度和效率有著至關重要的影響。以下將詳細解析該型號的主要參數(shù)及其作用。

    基本參數(shù)

    1. 
    型號：ASML 4022.634.11741
    2. 
    光源波長：該參數(shù)決定了光刻機使用的光源波長，常見光源波長包括193nm、248nm等。較短的波長能夠實現(xiàn)更高的分辨率，適用于先進制程芯片的制造。
    3. 
    數(shù)值孔徑（NA）：數(shù)值孔徑是衡量光刻機光學系統(tǒng)性能的重要指標，影響成像分辨率和焦深。高數(shù)值孔徑的光學系統(tǒng)能夠實現(xiàn)更高的分辨率，但焦深會變淺。
    4. 
    分辨率：指光刻機能夠在硅片上形成的最小特征尺寸，直接影響芯片的集成度。ASML 4022.634.11741具備先進的分辨率參數(shù)，能夠滿足當前主流芯片制造的需求。
    5. 
    套刻精度：套刻精度是指多層光刻圖案之間的對準精度，對于復雜芯片結構的制造至關重要。高套刻精度能夠保證芯片的性能和良率。

    性能參數(shù)

    1. 
    生產效率：該參數(shù)表示光刻機在單位時間內的生產能力，通常以每小時處理的硅片數(shù)量來衡量。ASML 4022.634.11741具備較高的生產效率，能夠滿足大規(guī)模芯片制造的需求。
    2. 
    對準系統(tǒng)：先進的對準系統(tǒng)能夠確保硅片在光刻過程中的精確對準，從而提高套刻精度和生產良率。該型號采用了先進的對準技術，具備出色的對準性能。
    3. 
    曝光方式：光刻機的曝光方式包括接觸式、接近式和投影式等。ASML 4022.634.11741采用了先進的投影式曝光方式，能夠實現(xiàn)高分辨率和大面積曝光。
    4. 
    掃描速度：掃描速度決定了光刻機在處理硅片時的速度，影響生產效率。該型號具備較快的掃描速度，能夠在保證質量的同時提高生產效率。

    技術特點

    1. 
    浸沒式技術：部分高端光刻機采用浸沒式技術，通過在水下成像來提高分辨率。ASML 4022.634.11741可能采用了這一先進技術，以進一步提升成像質量。
    2. 
    雙重圖案技術：為了滿足更先進制程的需求，光刻機可能需要采用雙重圖案技術等先進工藝。該型號支持這些先進技術，能夠應對復雜的芯片制造挑戰(zhàn)。
    3. 
    自動化程度：高度自動化的光刻機能夠提高生產效率和穩(wěn)定性。ASML 4022.634.11741具備高度的自動化程度，能夠實現(xiàn)高效、穩(wěn)定的芯片制造。

    應用范圍

    ASML 4022.634.11741廣泛應用于半導體制造領域，特別是在先進制程芯片的生產中發(fā)揮著重要作用。它能夠滿足高性能計算、移動通信、人工智能等領域對先進芯片的需求，為半導體產業(yè)的發(fā)展提供有力支持。
    通過以上對ASML 4022.634.11741參數(shù)的詳細解析，我們可以看出該型號光刻機在性能和技術方面具備顯著優(yōu)勢，是半導體制造領域的重要設備之一。
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