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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
德國(guó)ZESTRON HYDRON? SE 230A 用于半導(dǎo)體器件的堿性清洗劑
產(chǎn)品價(jià)格:¥0.10元/桶
上架日期:2025-01-26
發(fā)貨地:廣東 深圳市
供應(yīng)數(shù)量:不限
最少起訂:1桶
瀏覽量:16
詳細(xì)說(shuō)明
    詳細(xì)參數(shù)
    品牌德國(guó)ZESTRON型號(hào)HYDRON,SE230A
    類型水基型清洗劑外觀形態(tài)液體
    工作溫度常溫型(40℃~70℃)包裝規(guī)格25L/桶
    適用范圍去除助焊劑殘留pH值堿性
    產(chǎn)地其他
    HYDRON? SE 230A
    用于半導(dǎo)體器件的堿性清洗劑

    專為浸沒(méi)式清洗工藝設(shè)計(jì)的單相水基型清洗劑,能夠有效去除多種半導(dǎo)體電子器件芯片焊接后的助焊劑殘留物,包括引線框架、分立器件、功率模塊、功率LED、倒裝芯片和CMOS,且能夠保證有效去除銅表面的氧化層。

    相較于其他清洗液的優(yōu)勢(shì):

    為引線鍵合、封裝和膠裝等后續(xù)工藝提供無(wú)污點(diǎn)且激活的銅表面并在一定時(shí)間內(nèi)保持活性
    在處理銅、鋁、鎳等敏感金屬材料時(shí)表現(xiàn)出良好的材料兼容性
    非常低的表面張力,在清洗低間隙元器件的底部殘留物時(shí)擁有卓越表現(xiàn)
    應(yīng)用過(guò)程十分簡(jiǎn)便,在浸沒(méi)式清洗工藝中擁有卓越表現(xiàn)
    能夠輕易被去離子水漂洗干凈,不會(huì)留下任何殘留
    應(yīng)用領(lǐng)域
    去除污染物
    清洗工藝
    清洗技術(shù)
    SiP封裝清洗
    晶圓級(jí)封裝清洗
    MEMS器件封裝清洗

    功率電子器件清洗

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