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UV光解廢氣凈化設備原理：
  UV光解廢氣凈化設備采用高能C波段（僅次于切割不銹鋼的激光，強于氬弧焊光源的數十倍強度）在設備內，高強分解惡臭物質分子鏈，改變物質結構，將高分子污染物質，裂解、氧化成為低分子無害物質，如水和二氧化碳等。

光氧催化技術原理

光氧催化技術是采用光源對廢氣分子鏈進行凈化的專業(yè)技術,運用253.7納來光波段切割、斷鏈，燃燒、裂解廢氣分子鏈,改變分子結構,取為第一重處理;通過185納米波段進行電離空氣產生臭氧臭氧是氧化劑使破壞后的分子或中子以o3進行結含,使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈,在催化氧化過程中,轉變成低分子化合物使之變?yōu)镃O2、H2O等,同時催化劑起到加快反應進程,對廢氣進行凈化效果,取為第三重處理,通過三重處理后的廢氣可達93%以上,凈化、脫臭效果大大超過國家頒布的惡臭污染物排放標準

技術特點

一、低溫深度反應：光催化氧化適合在常溫下將廢臭氣體完全氧化成無毒無害的物質，適合處理高濃度、氣量大、穩(wěn)定性強的氣體的廢氣處理。

二、有效凈化：通過光催化氧化可直接將空氣中的廢臭氣體完全氧化成無毒無害的物質，不留二次污染。

三、綠色能源：光催化氧化利用人工紫外線燈管產生的真空波紫外光的同時可望利用太陽光作為能源來活化催化劑，驅動氧化—還原反應，而且光催化劑在反應過程中并不消耗，利用空氣中的氧作為氧化劑，有效降解臭氣體成為光催化氧化節(jié)約能源的大特點。

四、氧化性強：半導體光催化具有氧化性強的特點，對臭氧難以氧化的某些有機物都能有效加以分解，所以對難以降解的有機物具有特別意義，光催化的有效氧化劑是自由基(OH-)和超氧離子自由基(O2-、O-)，其氧化性高于常見的臭氧、雙氧水等。

五、廣譜性：光催化氧化對眾多的有機物都有效，即使對原子有機物也有很好的去除效果，只要經過一定時間的反應便可達到完全凈化。

六、壽命長：理論上，光催化劑的壽命是無限長的，無需更換。

應用范圍

噴漆、凈化、煉油，煉焦、石化,煤氣,糞便處理,制藥、合成樹酯,合成纖維、橡膠、氮肥硝酸,

肉類加工,水產加工,食品配料、香精,畜產品加工,皮革，骨膠，油漆,溶劑，油墨印刷，垃圾處理，醫(yī)藥等行業(yè)。